D
diemilio
Guest
Hej allihopa.
flesta Tech filerna jag arbetar med har ett N väl skikt, en N diffusion lager, P diffusion lager, POLY lager och METAL lager.Så, till exempel, om du ville skapa en NMOS du bara tvungen att placera POLY spridning över N diffusion (eftersom underlaget var arbetsutrymme).Nu jobbar jag med en teknik fil som inte bara har PPLUS och NPLUS skikt, men den har också en som kallas DIFF.I några exempel jag har sett, att skapa en NMOS du måste placera inte bara POLY över NPLUS skikt, men även du måste inkludera DIFF (se bifogad bild)!
Jag förstår inte varför!Är detta relaterat till någon form av tillverkning förfarande???
Tack för er hjälp,
diemilio
Ledsen, men du måste logga in för att se denna bilaga
flesta Tech filerna jag arbetar med har ett N väl skikt, en N diffusion lager, P diffusion lager, POLY lager och METAL lager.Så, till exempel, om du ville skapa en NMOS du bara tvungen att placera POLY spridning över N diffusion (eftersom underlaget var arbetsutrymme).Nu jobbar jag med en teknik fil som inte bara har PPLUS och NPLUS skikt, men den har också en som kallas DIFF.I några exempel jag har sett, att skapa en NMOS du måste placera inte bara POLY över NPLUS skikt, men även du måste inkludera DIFF (se bifogad bild)!
Jag förstår inte varför!Är detta relaterat till någon form av tillverkning förfarande???
Tack för er hjälp,
diemilio
Ledsen, men du måste logga in för att se denna bilaga